Litografia de
haz electronico
La litografia del
haz electronico (EBL) utiliza el hecho de que ciertos productos cambian sus
caracteristicas cuando son irradiados con electrones , como cuando una pelicula
fotogrifica es irradiada con luz. Esta tecnica tiene una larga tradicion ,
comenzando en los anos 70.
El haz electronico
se genera en un microscopio electronico de exploracion que se fija normalmente
para que proporcione a una imagen de un objeto,explorado por un haz enfocado de
electrones sobre el. Recogiendo los electrones que se dispersan o que emanan de
ese objeto para cada exploracion proporciona a una imagen. Con el control del
ordenador, de la posicion del haz electronico es posible dibujar una estructura
arbitraria sobre una superficie.
Los pasos para
producir una estructura con el EBL
se muestran abajo: la muestra se cubre con una capa delgada de PMMA, entonces
la estructura deseada se expone con cierta dosis de electrones. El PMMA
expuesto cambia su solubilidad hacia ciertos productos químicos. Esto se puede
utilizar para producir un foso en la capa delgada. Si uno desea producir una
estructura metálica, una película del metal se evapora sobre la muestra y
después de disolver el PMMA no expuesto con su cubierta (despegue,extraccion) la
estructura metálica deseada permanece en el substrato.
Algunos ejemplos
de estructuras dibujadas se muestran abajo. El primer ejemplo es un transistor de
efecto de campo fabricado en silicio,con un tmano de 100 nm , la fuente(source),
el drenado(drain) y la puerta(gate) se hacen de tungsteno.
Eduardo Ghershman,15.6.2002 enlace a CIENCIA